CQ9电子安徽长飞先进半导体申请碳化硅场效应晶体管相关专利提高栅极沟槽的击穿电压
栏目:公司新闻 发布时间:2024-09-02
 CQ9电子金融界 2024 年 8 月 30 日消息,天眼查知识产权信息显示CQ9电子,安徽长飞先进半导体有限公司申请一项名为“碳化硅场效应晶体管及其制备方法、功率模块及车辆“CQ9电子,公开号 CN4.6 ,申请日期为 2024 年 5 月 。  专利摘要显示,本申请公开了一种碳化硅场效应晶体管及其制备方法、功率模块及车辆CQ9电子,属于半导体技术领域。碳化硅场效应晶体管包括:沿第一方向层叠

  CQ9电子金融界 2024 年 8 月 30 日消息,天眼查知识产权信息显示CQ9电子,安徽长飞先进半导体有限公司申请一项名为“碳化硅场效应晶体管及其制备方法、功率模块及车辆“CQ9电子,公开号 CN4.6 ,申请日期为 2024 年 5 月 。

  专利摘要显示,本申请公开了一种碳化硅场效应晶体管及其制备方法、功率模块及车辆CQ9电子,属于半导体技术领域。碳化硅场效应晶体管包括:沿第一方向层叠设置的漏极层、第一掺杂衬底层、第一掺杂外延层CQ9电子、第二掺杂基区层、第一掺杂层和源极层;两个源极沟槽从第一掺杂层靠近源极层的表面起始,延伸至第一掺杂外延层,源极沟槽的槽口朝向源极层,源极层向源极沟槽内延伸,源极沟槽内填充有延伸的源极层;栅极沟槽设置于两个源极沟槽之间,栅极沟槽从第一掺杂层靠近源极层的表面起始,延伸至第一掺杂外延层CQ9电子,栅极沟槽的槽口朝向源极层;第二掺杂第一子区域设置于源极沟槽底部远离所述源极层的一侧,且朝向第一掺杂衬底层的方向延伸。可以提高栅极沟槽的击穿电压。